近期商场反弹效应渐显，作为“卡脖子”中心环节的光刻机板块亦体现活泼，11月9日，炬光科技（688167.SH）、富乐德（301297.SZ）涨20%，海立股份（600619.SH）涨停10%，蓝英配备（300293.SZ）等跟涨。

  消息面，到9月30日的前三季度，荷兰光刻机巨子阿斯麦（ASML）全球净出售为203.21亿欧元，来自我国区的就有52.67亿欧元，占比25.91%。

  阿斯麦的全球高档副总裁、我国区总裁沈波在进博会期间表明，本年阿斯麦我国的事务增加很快，预期全年我国区营收占比超越20%，对下一年我国区事务也十分的达观。

  沈波表明：“咱们2023年在我国的招聘是超越200人的，2024年咱们估计事务的发展会持续带来许多需求，咱们的团队的扩大应该还会是一个相对来说仍是比较大的规划。”

  光刻机概念闻讯股纷繁上涨，背面的逻辑是在当前科技环境的布景下，国内晶圆厂扩产不止，上游半导体设备保持高景气量，尤其是光刻机需求迎来高速增加。

  光刻机集精细光学、机械和操控、资料等很多最尖端技能于一身，算是半导体制作的完好过程中价值量和技能壁垒最高的设备之一，被誉为“半导体工业皇冠上的明珠”。

  2022年全球晶圆前道设备出售941亿美元，光刻机占17%，是IC制作的第三大设备，但却是单机价值量最大的设备。据阿斯麦财报测算，2022年单台EUV价格约1.8亿欧元，浸没式DUV约6500万欧元。

  现在商场上的高端EUV光刻机设备首要荷兰阿斯麦公司等所独占，中高端DUV光刻机阿斯麦公司亦把握重要话语权。

  依据我国海关总署数据，2022年我国大陆IC用光刻机进口金额共39.7亿美元，其间荷兰和日本的进口金额占总金额的97%，且高端机台首要从荷兰阿斯麦进口。

  但在本年6月末，荷兰政府发布了有关半导体设备出口新规，该法规于本年9月1日收效。在最新法规中，除最先进的EUV设备外，部分DUV设备（即TWINSCAN NXT：2000i及后续推出的滋润式光刻体系）也受限。

  但是让所有人都意外的是，9月份，荷兰官方又发放光刻机年内发运答应，阿斯麦将可以在2023年末前持续向我国出口其NXT：2000i和更先进的DUV光刻设备。

  背面的科技比赛和相关细节暂时不谈，阿斯麦事实上一直在不断地出货，我国商场的重要性是显而易见的。

  据悉，到2023年末，阿斯麦在我国商场的光刻设备装机量将打破1400台的门槛，而在2019年的时分，这个数据还仅仅挨近千台。

  危机暂缓，但未来光刻机仍存在隐忧。在此布景下，未来无论是整机自研配套零部件，或是备件替换都会更多依靠国内零部件供货商，光刻机上游零部件企业迎时机。

  一台光刻机由三大中心体系和数万个零部件组成，2022年阿斯麦供货商约5000家，算计供给链开销124亿欧元，而2022年阿斯麦设备收入154亿欧元，以此测算，上游零部件本钱占比约56%。

  上述零部件以欧洲为主导，部分美国、我国台湾的公司亦有参加，中航证券测算，若供给链完成国产代替，对应上游零部件商场空间超150亿元。财华社依据揭露资料，整理相关零部件企业如下：

  奥普光电（002338.SZ）：旗下子公司禹衡光学是亚洲最具实力的光栅编码器制作商，参加了多项行业标准的拟定。公司持有禹衡光学65%的股权，并布局超精尺方面的技能投入和研制，理论上可用于光刻机。

  茂莱光学（688502.SH）：公司是世界先进精细光学归纳解决方案供给商，专心于精细光学器材，高端光学镜头和先进光学仪器的研制与制作。

  本年上半年，公司半导体范畴收入占比约1/3，旗下半导体检测设备光学模组供货KLA、Camtek；光学透镜供货SMEE，为光刻机国产化供给了重要支撑。

  美埃科技（688376.SH）：公司聚集工业级超洁净技能，掩盖国内外半导体龙头厂商，为国内光刻工作供给一臂之力。旗下半导体范畴的产品有风机过滤单元、过滤器等。风机过滤单元是洁净室空气净化的关键设备，并调配或内置超高效过滤器，供给安稳洁净气流。

  公司客户矩阵强壮，掩盖中芯世界、STM、Intel等国内外头部半导体公司，2006年至今为中芯世界多地工厂供给FFU、过滤器等产品。

  富乐德（301297.SZ）：公司已研制并量产半导体14nm制程洗净工艺、储藏的半导体7nm部品清洗工艺已较为老练。公司为光刻环节的溶胶显影、涂胶等设备供给精细洗净服务。

  蓝英配备（300293.SZ）：公司精细整理洗刷设备面向的高端芯片制作业企业客户包含光刻机制作企业的合资公司，该客户担任制作光刻机的中心光学体系。

  张江高科（600895.SH）：公司经过子公司上海张江浩成创业出资有限公司出资了上海微电子配备有限公司约2.23亿元，持有微装公司10.779%的股权。公司出资上海微电子配备、华勤通讯为代表的一批集成电路优质企业，完成“我国芯”国产光刻机的重大打破。

  此外，光掩膜版作为半导体产业链的上游中心资料之一，关于光刻工艺的重要性不弱于光刻机，现在国内厂商逐渐缩小与海外有突出贡献的公司的技能距离，相关厂商有望迎来成绩的高速增加。

  清溢光电（688138.SH）：公司已完成180nm工艺节点半导体芯片掩膜版的客户测验认证及量产，同步展开130nm-65nm半导体芯片掩膜版的工艺研制和28nm半导体芯片所需的掩膜版工艺开发规划。

  光刻机仍是“卡脖子”的中心环节，但相关零部件产商的技能不断打破，有望在未来国产代替的进程中分得一杯羹，出资时机或将不断涌现。